首页 > 行业资讯 >> 化工新质料 >> 光刻胶稀释剂属于光刻胶配套试剂,国产化进程加速
文章来源:918博天堂咨询整理 作者:918博天堂咨询整理 阅读量:3 宣布时间:2024-03-21
光刻胶稀释剂指用于稀释光刻胶的溶剂,能够控制光刻胶的黏度和涂覆性能。光刻胶稀释剂需具备化学稳定性好、纯度高、溶解性好等优势,在半导体领域需求旺盛。乳酸乙酯、N-甲基-2-吡咯烷酮以及丙二醇单甲醚等化学溶剂皆可用作光刻胶稀释剂。
凭据用途差别,光刻胶稀释剂可分为正型光刻胶稀释剂以及负型光刻胶稀释剂。正型光刻胶稀释剂简称正胶稀释剂,指用于稀释正型光刻胶的稀释剂,为光刻胶稀释剂代表产品。正型光刻胶稀释剂通常以醚和醋等化学溶剂为原质料制成。随着研究深入、技术进步,我国正型光刻胶稀释剂产量及质量不绝提升,发动光刻胶稀释剂行业生长速度进一步加速。
凭据918博天堂宣布的《2023-2028年中国光刻胶稀释剂行业市场深度调研及生长前景预测报告》显示,受益于国家对半导体工业生长高度重视,我国光刻胶市场空间不绝扩展。2022年我国光刻胶市场规模抵达近100亿元,创立历史新高。光刻胶配套试剂可与光刻胶搭配使用,为半导体制造重要质料,占据半导体质料市场近6.5%的份额。光刻胶稀释剂为光刻胶配套试剂细分产品,随着下游行业景气度提升,光刻胶稀释剂市场需求将日益旺盛。
在行业生长初期,受技术壁垒高等因素限制,我国光刻胶稀释剂高度依赖进口。韩国株式会社东进世美肯(Dongjin)、美国陶氏化学(DOW)、美国杜邦公司(DuPont)、德国ALLRESIST GmbH公司等为我国光刻胶稀释剂主要供应商。受国际形势影响,全球多家企业不绝收紧对我国的半导体质料及相关技术的出口限制,这为光刻胶稀释剂行业生长带来一定挑战。
近年来,在国家政策支持以及本土企业连续发力等积极因素推动下,我国光刻胶稀释剂市场国产替代进程有所加速。上海新阳、容大感光、广信质料等为我国光刻胶稀释剂主要生产商。目前,上海新阳拟建于上;Чひ登哪瓴1万吨光刻胶稀释剂新增产能建设项目已取得施工许可证,将于2026年上半年正式投产。
光刻胶稀释剂为光刻胶配套试剂,随着光刻胶市场空间不绝扩展,其行业生长态势连续向好。在行业生长初期,我国光刻胶稀释剂高度依赖进口。近年来,陪同国家政策支持以及技术进步,我国国产光刻胶稀释剂市场占比不绝提升。